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ROUND LAB Masque Cica Apaisant au Pin 10 feuilles

ROUND LAB Masque Cica Apaisant au Pin 10 feuilles

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Le masque ROUND LAB Pine Calming Cica (10 feuilles) est un traitement apaisant intensif spécifiquement formulé pour calmer les peaux irritées, sensibles et fatiguées grâce au pouvoir rafraîchissant de la nature.

Infusé d'un mélange concentré de Pine Cica Activer™ – un complexe unique combinant de l'extrait d'aiguilles de pin, de la glycoprotéine végétale et des extraits de Centella Asiatica (Cica) – ce masque procure un soulagement rafraîchissant immédiat contre les rougeurs et le stress cutané. La feuille spécialisée et écologique adhère parfaitement aux contours de votre visage, permettant à l'essence riche en humidité de pénétrer profondément dans les couches de la peau. Elle agit pour restaurer l'équilibre naturel de votre peau, apaisant les zones inflammées et laissant votre teint confortablement hydraté, lisse et revitalisé. Parfait pour un rituel apaisant quotidien afin de rafraîchir et protéger les peaux sensibilisées.

Hypoallergénique et doux, ce masque convient à tous les types de peau, y compris celles sujettes à la sensibilité ou à l'acné. Découvrez le pouvoir réparateur de la nature pour un aspect plus calme, plus sain et magnifiquement rafraîchi.


Ingrédients

Eau, glycérine, dipropylène glycol, glycéréth-26, acide hyaluronique, acide hyaluronique hydrolysé, hyaluronate de sodium, butylène glycol, extrait de Portulaca Oleracea, extrait de feuille de Pinus Densiflora (1 010 ppm), propanediol, Chondrus Crispus, éthylhexylglycérine, extrait de Centella Asiatica (20,3 ppm), gomme biosaccharide-1, polyacryloyldiméthyl taurate d'ammonium, trométhamine, caprate de polyglycéryle-4, glycoprotéine (0,202 ppm), caprylate de polyglycéryle-6, acide capryloyl salicylique, hydroxyéthylcellulose, asiaticoside (0,0101 ppm), acide asiatique (0,0101 ppm), madécassoside (0,0101 ppm), acide madécassique (0,0101 ppm), 1,2-hexanediol, hydroxyacétophénone, disodium EDTA, gomme xanthane, carbomère.


Ingrédients

Conseils d'utilisation

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