ROUND LAB Pine Calming Cica Masker 10 Stuks

ROUND LAB Pine Calming Cica Mask (10 Stuks) is een intensieve verzachtende behandeling die speciaal is ontwikkeld om geïrriteerde, gevoelige en vermoeide huid te kalmeren met de verfrissende kracht van de natuur.

Verrijkt met een geconcentreerde mix van Pine Cica Activer™ – een uniek complex dat dennenbladextract, plantaardig proteïne-glycoproteïne en Centella Asiatica (Cica) extracten combineert – biedt dit masker onmiddellijke, verkoelende verlichting bij roodheid en huidstress. Het gespecialiseerde, milieuvriendelijke masker hecht perfect aan de contouren van je gezicht, waardoor de vochtrijke essentie diep in de huidlagen kan doordringen. Het helpt de natuurlijke balans van je huid te herstellen, ontstekingen te verzachten en je huid comfortabel gehydrateerd, glad en gerevitaliseerd te laten voelen. Perfect voor een dagelijks kalmerend ritueel om de gevoelige huid te verfrissen en te beschermen.

Hypoallergeen en zacht, dit masker is geschikt voor alle huidtypes, inclusief degenen die gevoelig zijn voor overgevoeligheid of acne. Ervaar de herstellende kracht van de natuur voor een kalmere, gezondere en prachtig verfriste uitstraling.

Ingrediënten

Water, Glycerine, Dipropyleenglycol, Glycereth-26, Hyaluronzuur, Gehydrolyseerd Hyaluronzuur, Natriumhyaluronaat, Butyleenglycol, Portulaca Oleracea Extract, Pinus Densiflora Bladextract (1.010 ppm), Propaandiol, Chondrus Crispus, Ethylhexylglycerine, Centella Asiatica Extract (20,3 ppm), Biosaccharide Gum-1, Ammonium Polyacryloyldimethyl Taurate, Tromethamine, Polyglyceryl-4 Capraat, Glycoproteïne (0,202 ppm), Polyglyceryl-6 Capraat, Capryloyl Salicylzuur, Hydroxyethylcellulose, Asiaticoside (0,0101 ppm), Aziatisch zuur (0,0101 ppm), Madecassoside (0,0101 ppm), Madecassinezuur (0,0101 ppm), 1,2-Hexaandiol, Hydroxyacetofenon, Dinatrium EDTA, Xanthaangom, Carbomeer.